減圧下または常圧下において、基板上に各種のCVD膜を形成する装置です。一般的なCVD装置として広範囲に使用できます。導入ガスの圧力制御は手動式、または自動式のいずれも可能です。
蒸発粒子をイオン化して蒸着する装置です。ガスをプラズマ化して蒸発粒子と結合させ化合物膜を得る反応性蒸着を行うことが出来ます。 原理的に多くの種類の蒸着材料に適応することができ、金属膜、酸化物膜を高速で成膜することが可能です。窒化チタンや窒化クロムなどが低温で製膜されます。
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