共立が設計製作した真空装置で特徴のある装置の一例です。

ガス量測定装置
ガス量測定装置本装置はアルミニウムダイキャスト、鋳、鍛造製品、インゴット中のガス成分及びその含有量を測定する装置です。資料を真空中で熔解し、その中に含まれているガスを抽出し、圧力の変化によりガス量を算出し、その容積を表示します。
質量に対し含有するガス量が正確に測定できるので、製品の品質管理を行うのに最適です。

昇華精製装置
昇華精製装置有機EL発光素子用有機化合物(粉末状)を真空中で加熱昇華して精製する装置です。炉心管の温度勾配により不純物を分離します。
処理能力として1回当り3Kg程度の処理が可能です。有機EL材料の生産用装置です。



プラズマ真空蒸着装置(22Bバルブ)
プラズマ真空蒸着装置本装置は車両用ヘッドランプ、テールランプ等の反射ミラーの蒸着装置です。二面ドアー型チャンバーにて交互に成膜が可能です。

真空脱ガス装置
真空脱ガス装置電子部品及び電気機器、精密機器部品は、磁性材料・導電材料・絶縁材などで構成されていますが、高真空中で脱ガスと乾燥を行う事によってこれらの材料の特性を向上させ、高性能、かつ長寿命の部品を生みだすことができます。
また水晶振動子、半導体部品、レーザーディスクの乾燥、新素材分野で脱水脱ガス処理にも応用されています。
さらに医薬品などの乾燥保存、酸化防止、薬品容器の洗浄後の完全乾燥などに使用されます。クライオポンプを使用して高真空を実現していますので特に水分の乾燥を重視する製品に最適です。

光学多層膜用蒸着装置
光学多層膜用蒸着装置光学多層膜生産用に最適な、コンピュータ制御による全自動装置です。抵抗式と電子銃式の蒸発源を備え、幅広い材料の蒸着が可能で、水晶式膜厚モニターが標準装備されています。(光学式膜厚モニターも可能です。)

常圧減圧CVD装置

減圧下または常圧下において、基板上に各種のCVD膜を形成する装置です。一般的なCVD装置として広範囲に使用できます。導入ガスの圧力制御は手動式、または自動式のいずれも可能です。

装置外観の全体図
常圧減圧CVD装置
装置の内部
常圧減圧CVD装置

イオンプレーティング装置

蒸発粒子をイオン化して蒸着する装置です。ガスをプラズマ化して蒸発粒子と結合させ化合物膜を得る反応性蒸着を行うことが出来ます。
原理的に多くの種類の蒸着材料に適応することができ、金属膜、酸化物膜を高速で成膜することが可能です。窒化チタンや窒化クロムなどが低温で製膜されます。

実験用装置
イオンプレーティング装置
生産用装置
イオンプレーティング装置

粉体スパッタリング装置
粉体スパッタリング装置本装置は微粒子、他粉体を回転バレル内に収納し、バレル内で撹拌しながら粉末材料の全表面に成膜を行う装置です。

ワイヤー巻取スパッタリング装置
ワイヤー巻取スパッタリング装置本装置は帯状の材料に成膜するための装置です。巻き出し室、巻き取り室を有しスパッタ室、冷却室、ドライエッチング室を配置し材料への成膜を行う装置です。


その他実験用、生産用装置各種ご用命承ります。
真空技術を応用した新規開発のご要望も承ります。
ホットプレス
プラズマCVD装置 
ホットプレス
プラズマCVD装置

プラズマ蒸着装置
真空溶解炉

結晶成長装置
電子ビーム蒸着装置

真空乾燥装置
汎用真空装置 

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